Патент на изобретение. Способ обеззараживания и очистки жидких сред и технологическая линия для его реализации

Реферат

Группа изобретений может быть использована для подготовки воды в системах хозяйственно-питьевого и промышленного назначения. Способ включает кавитационную обработку водной среды струйной кавитацией с эжектированием в кавитатор воздуха или кислородно-воздушной смеси, последующую обработку среды в гидродинамическом реакторе с вращающимся магнитным полем и ферромагнитными элементами в виде игл, отстаивание обработанной водной среды и отделение шлама. Технологическая линия содержит струйный кавитатор (2), снабженный средствами эжектирования в него воздуха или кислородно-воздушной смеси, гидродинамический реактор (3) с вращающимся магнитным полем и ферромагнитными элементами в виде игл и блок (5) отстаивания среды, совмещенный с системой удаления шлама (6). Технический результат - повышение скорости очистки и увеличение эффективности очистки и обеззараживания водных сред.

Группа изобретений относится к технологии обработки жидких водных сред, а именно к способу и технологической линии для обеззараживания и очистки среды, и может быть использована для подготовки воды в системах хозяйственно-питьевого и промышленного назначения, в химической и фармацевтической, пищевой, медицинской промышленности, а также для очистки и обеззараживания сточных вод предприятий коммунально-хозяйственного, промышленного и агропромышленного назначения, устройства локальных очистных сооружений и станций подготовки воды модульного типа.

Формула изобретения

 1. Способ очистки и обеззараживания водных сред, включающий: кавитационную обработку среды посредством струйной кавитации с эжектированием в кавитатор воздуха или кислород-воздушной смеси, последующую обработку среды посредством гидродинамического реактора с вращающимся магнитным полем и ферромагнитными иглами, и отстаивание обработанной среды с отделением шлама.

2. Способ по п. 1, в котором кавитационную обработку струйной кавитацией и в гидродинамическом реакторе проводят с обеспечением образования активных окислителей ОН·, Н2О2и О3. 3. Способ по п. 1, в котором обработку в гидродинамическом реакторе осуществляют с обеспечением диспергирования частиц до субмикронных размеров и увеличения поверхности раздела фаз газ-жидкость-твердое. 4. Способ по п. 1, в котором перед кавитационной обработкой осуществляют усреднение состава водной среды. 5. Способ по п. 1, в котором в процессе обработки среды в гидродинамическом реакторе в него добавляют по меньшей мере один реагент, выбранный из группы, включающей: известковое молоко, сульфат алюминия, хлорное железо. 6. Способ по любому из пп. 1-5, дополнительно включающий импульсную обработку полученной среды в роторно-импульсном аппарате. 7. Способ по любому из пп. 1-5, дополнительно включающий фильтрацию среды с помощью насыпных фильтров. 8. Способ по любому из пп. 1-5, дополнительно включающий озонирование среды. 9. Способ по любому из пп. 1-5, дополнительно включающий обработку среды ультрафиолетом. 10. Технологическая линия для обеззараживания и очистки водных сред, содержащая последовательно установленные: струйный кавитатор (2), снабженный средствами эжектирования в него воздуха или кислород-воздушной смеси, гидродинамический реактор (3) с вращающимся магнитным полем и ферромагнитными иглами (16) и блок (5) отстаивания среды, совмещенный с системой удаления шлама (6). 11. Линия по п. 10, дополнительно содержащая смеситель-усреднитель (1), установленный перед струйным кавитатором (2). 12 Линия по п. 10, дополнительно содержащая дозатор (4) реагентов в гидродинамический реактор (3). 13. Линия по п. 10, в которой блок отстаивания (5) среды содержит гидроциклоны-отстойники. 14. Линия по п. 10, дополнительно содержащая роторно-импульсный аппарат (7), установленный после блока отстаивания (5). 15. Линия по п. 10, дополнительно содержащая насыпные фильтры (8), установленные после блока отстаивания (5). 16. Линия по п. 10, дополнительно содержащая блок озонирования (9) среды, установленный после блока отстаивания (5). 17. Линия по п. 10, дополнительно содержащая блок ультрафиолетовой обработки (10) среды, установленный после блока отстаивания (5).
18. Линия по любому из пп. 10-17, дополнительно содержащая блок автоматического управления процессами (12).