Международный патентный классификатор (МПК) - Класс G03F: Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
Класс G03F Международного патентного классификатора (МПК) охватывает методы и устройства, связанные с фотомеханическим изготовлением текстурированных поверхностей, используемых в различных промышленных процессах, таких как печать, изготовление полупроводниковых приборов, а также производство фотомасок и других оригиналов для этих целей. Данный класс также включает в себя материалы и специальные устройства, применяемые в этих процессах. Ниже представлены основные подклассы класса G03F с кратким описанием и примерами.
G03F 1/00: Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление
Этот подкласс охватывает оригиналы, такие как фотомаски и сетки, используемые для создания текстурированных поверхностей, а также технологии их изготовления и контейнеры для их хранения.
Примеры:
- Фотомаски для полупроводниковых устройств: Используются для создания схем на поверхности полупроводников.
- Сетки для офсетной печати: Применяются для точного переноса рисунка на печатную поверхность.
G03F 3/00: Цветоделение изображения; исправление тональности негативов или позитивов
Подкласс G03F 3/00 включает процессы цветоделения изображений, используемые в полиграфии и других визуальных медиа, а также методы исправления тональности негативов или позитивов для получения качественного изображения.
Примеры:
- Процесс цветоделения для офсетной печати: Включает разделение изображения на компоненты цветов CMYK для последующей печати.
- Цифровая корректировка тональности фотографий: Используется для улучшения качества изображения перед печатью.
G03F 5/00: Растровые процессы; растры
Этот подкласс охватывает растровые процессы и сами растры, которые применяются для преобразования изображений в форму, пригодную для печати или других методов воспроизведения.
Примеры:
- Растровые решетки для печати: Применяются для создания полутоновых изображений в полиграфии.
- Генерация растрового изображения для 3D-печати: Используется для создания рельефных структур на поверхности материалов.
G03F 7/00: Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
Подкласс G03F 7/00 включает фотомеханические и фотолитографические методы создания рельефных поверхностей, которые находят широкое применение в производстве полупроводников, печатных плат и других высокотехнологичных изделий. Сюда также входят материалы, такие как фоторезисты, и специализированные устройства.
Примеры:
- Фотолитография в производстве микросхем: Технология, используемая для создания миниатюрных структур на полупроводниковых пластинах.
- Фоторезисты для печатных плат: Материалы, используемые для формирования проводящих дорожек на платах.
G03F 9/00: Фиксация или размещение оригиналов, масок, растров, фотографических листов или рельефных или текстурированных поверхностей, например автоматически
Этот подкласс охватывает устройства и методы, предназначенные для фиксации и точного размещения оригиналов, масок, растров и других материалов, используемых в процессе фотомеханического изготовления.
Примеры:
- Автоматические системы размещения фотомасок: Обеспечивают точное позиционирование фотомасок на полупроводниковых пластинах.
- Устройства для фиксации растров в печатных машинах: Применяются для стабильного закрепления растровых решеток во время печати.
Таблица примеров
|
Подкласс
|
Пример устройства или процесса
|
Применение
|
|
G03F 1/00
|
Фотомаски для полупроводниковых устройств
|
Создание схем на поверхности полупроводников
|
|
G03F 3/00
|
Процесс цветоделения для офсетной печати
|
Разделение изображения на компоненты CMYK
|
|
G03F 5/00
|
Растровые решетки для печати
|
Создание полутоновых изображений
|
|
G03F 7/00
|
Фотолитография в производстве микросхем
|
Создание миниатюрных структур на полупроводниковых пластинах
|
|
G03F 9/00
|
Автоматические системы размещения фотомасок
|
Точное позиционирование фотомасок на полупроводниковых пластинах
|
Заключение
Класс G03F Международного патентного классификатора представляет собой ключевую область технологий, связанных с фотомеханическим изготовлением текстурированных поверхностей. Он охватывает широкий спектр процессов и устройств, используемых в таких отраслях, как полупроводниковая промышленность, полиграфия и производство печатных плат. Понимание этого класса важно для специалистов, занимающихся разработкой и внедрением передовых технологий в этих областях.
